2025年4月、米国において、Maxwell Labs、Sandia National Laboratories、そしてニューメキシコ大学の連携による画期的なプロジェクトが始まりました。この共同研究は、高密度コンピュータープロセッサの冷却方法に革命をもたらすことを目指し、レーザー光を利用したフォトニック冷却技術の開発に焦点を当てています。
このプロジェクトは、データセンターの膨大なエネルギー消費という課題に取り組んでいます。データセンターは、電力の多くを冷却システムに費やしているのが現状です。この革新的なアプローチでは、レーザー光を用いてチップ上の局所的なホットスポット、特にGPUを冷却することで、消費電力の削減と効率の向上を目指します。
この技術は、超高純度のガリウムヒ素に依存しており、Sandia National Laboratoriesの分子線エピタキシー技術が不可欠な役割を果たしています。チームはまた、レーザー光を正確に制御するためのフォトニック構造を設計するために、コンピューター最適化技術であるインバースデザインを採用しています。これにより、これまでにない性能レベルでのプロセッサの動作が実現する可能性があります。現在、このプロジェクトは試験と製造段階にあり、今後の進展が期待されます。
この技術は、日本の企業にとっても大きな関心事となるでしょう。日本のデータセンターも、エネルギー効率の向上は喫緊の課題であり、この技術がもたらす省エネ効果は、日本の企業文化である「改善」の精神にも合致します。また、この技術は、日本の精密技術やものづくり文化とも親和性が高く、今後の技術発展においても、日本企業との連携が期待されます。